基于三氧化钨 /p 型金刚石半导体器件的 耐高温性能制备技术
成果名称: 基于三氧化钨 /p 型金刚石半导体器件的 耐高温性能制备技术 所属领域: 新材料
成果类型: 技术成果 知识产权类型:
技术成熟度: 产业化阶段 技术特点:
成果权属: 单位 成果单位:
联系人: 王丽莹 联系电话 0431-85716280
所在地: 吉林省长春市 发布人: 个人 -未署名
极端条件下稳定、可靠半导体器件具有重要的战略意义。目前实用化的硅 Si、锗Ge、砷化镓 GaAs 半导体器件,其最高工作温度限于 200 oC 以内,硅基的本征载流子浓度随着温度的升高而不断升高,掺杂载流子浓度受到抵制,在半导体的温度载流子效应和结温效应共同作用下,到 150~200 oC 时硅基是完全导电的状态,器件半导体性能崩溃。其中,半导体材料的禁带宽度决定了器件安全工作的最高温度,同时,器件的抗辐射能力也和禁带宽度有关,禁带宽度越宽,抗辐射能力越强。
本项目在异质结器件的设计上选用 p 型金刚石和 WO3 构成器件的核心部分,金刚石和 WO3 的微观结构及电子运输性能上都具有较大的可调节性,并通过硼原子或其他材料的掺杂,改变其载流子浓度,调节禁带宽度 ;并将该结构制备成高温半导体器件,检验其高温下的电子传输性能,构建高温电子器件。该成果在石油和天然气勘探、地热监测、工业引擎、航天、航空、核能等领域具有广泛应用前景。