本实用新型涉及一种基于可升降平台的辊对平面紫外纳米压印装置，属于紫外纳米压印光刻领域。调节装置通过螺钉固定在主机架上部的滑块三和滑块四上，可升降平台的步进电机一固定于机架内部，并通过与支撑杆轴承配合固定于机架上，工作平台的Y轴工作平台方向指向可升降平台，工作平台通过螺钉固定于机架中央的底板上，运输装置一和运输装置二通过螺栓分别固定于机架的两侧，紫外灯固定于机架的支撑梁上，干蚀刻装置与机架由螺钉连接，固定于机架右侧的通道中。优点是结构新颖，压印装置相较于以往的滚对平面压印装置有更高的生产效率；使得模板与衬底更好的共形接触；减少了紫外曝光过程中热应力较大对模板和衬底的损伤。